ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE COMPOSITION

摘要

감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은 적어도 하나의 페놀성 히드록실기와 페놀성 히드록실기의 수소 원자가 하기 일반식(1)으로 표시되는 기로 치환되어 있는 적어도 하나의 기를 함유하는 화합물(P)을 포함한다(일반식 중, M은 단일결합 또는 2가 연결기를 나타내고; Q은 알킬기, 시클로알킬기, 또는 아릴기를 나타낸다).