发明名称 DEVICE FOR VERTICAL GALVANIC METAL DEPOSITION ON A SUBSTRATE
摘要 본 발명은, 기판상의 수직방향 갈바닉 금속, 바람직하게는 구리 성막을 위한 디바이스로서, 상기 디바이스는 적어도 제 1 디바이스 요소 및 제 2 디바이스 요소를 포함하고, 디바이스 요소들은 수직 방식으로 서로 평행하게 배치되고, 상기 제 1 디바이스 요소는 복수의 관통 도관들을 갖는 적어도 제 1 애노드 요소 및 복수의 관통 도관들을 갖는 적어도 제 1 캐리어 요소를 포함하고, 상기 적어도 제 1 애노드 요소 및 상기 적어도 제 1 캐리어 요소는 서로 확고하게 연결되고, 상기 제 2 디바이스 요소는 처리될 적어도 제 1 기판을 수용하도록 되어 있는 적어도 제 1 기판 홀더를 포함하고, 상기 적어도 제 1 기판 홀더는 처리될 상기 적어도 제 1 기판을 수용한 후에 그의 외부 프레임을 따라 처리될 상기 적어도 제 1 기판을 적어도 부분적으로 둘러싸고, 상기 적어도 제 1 디바이스 요소의 상기 제 1 애노드 요소와 상기 제 2 디바이스 요소의 상기 적어도 제 1 기판 홀더 사이의 거리가 2 내지 15 ㎜ 인, 디바이스에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 일반적으로, 그러한 디바이스를 사용하여 기판상에 수직방향 갈바닉 금속을 성막하기 위한 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR20150088911(A) 申请公布日期 2015.08.03
申请号 KR20157019240 申请日期 2013.12.03
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 WEINHOLD RAY;WIENER FERDINAND
分类号 C25D17/00;C25D17/08;C25D17/12 主分类号 C25D17/00
代理机构 代理人
主权项
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