用于以电浆为基础之处理的系统、装置、方法

主权项

一种用于以电浆为基础之处理的系统，其系包括：一被配置以包含一电浆的电浆处理室；一设置在该电浆处理室内且耦接至一基板的静电夹头，一离子能量的控制部分，该离子能量的控制部分系响应于至少一离子能量的分布设定以提供至少一离子能量的控制信号，该至少一离子能量的分布设定系指出在该基板的表面的离子能量分布之一所要的分布；一耦接至该静电夹头以及该离子能量的控制部分的切换式电源供应器，该切换式电源供应器系包含一或多个切换构件，该切换构件系被配置以响应于该离子能量的控制信号来提供一周期性的电压函数至该静电夹头，其中该周期性的电压函数系具有一AC波形以及一DC偏置，该AC波形系成比例于该电浆在该基板的表面之所要的离子能量分布，该DC偏置系成比例于一夹持电位，该夹持电位系维持在该基板与该静电夹头之间的耦接；以及一耦接至该静电夹头的离子电流补偿构件，该离子电流补偿构件系达成可控制宽度的该离子能量分布，该离子电流补偿构件包含耦接至该静电夹头的DC电流源，藉以提供补偿电流来补偿该电浆处理室中的离子电流。