图案形成方法、图案、化学增幅型光阻组成物及光阻膜,申请号TW100101266-传众专利搜索

发明名称	图案形成方法、图案、化学增幅型光阻组成物及光阻膜
摘要
申请公布号	TWI494330	申请公布日期	2015.08.01
申请号	TW100101266	申请日期	2011.01.13
申请人	富士软片股份有限公司	发明人	岩户薰;樽谷晋司;榎本雄一郎;上村聪;加藤启太
分类号	C08F220/30;G03F7/038;H01L21/027	主分类号	C08F220/30
代理机构		代理人	詹铭文台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项	一种图案形成方法，其包括：(i)由化学增幅型光阻组成物形成膜之步骤；(ii)使所述膜曝光之步骤；以及(iii)藉由使用含有机溶剂之显影剂使经曝光之所述膜显影之步骤，其中所述化学增幅型光阻组成物含有：(A)含有具有两个或两个以上羟基之重复单元的树脂；(B)能够在用光化射线或辐射照射之后产生酸的化合物；(C)交联剂；以及(D)溶剂。
地址	日本