发明名称 盐及包含该盐的光阻组成物;SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
摘要 一种下式(I)所示之盐:式中Q 1 与Q 2 各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基;L b1 表示C1-C24二价饱和烃基等;R 1 、R 2 、R 3 与R 4 于每次出现时独立地表示C1-C12脂族烃基等;及A + 表示有机抗衡离子。; L b1 represents a C1-C24 divalent saturated hydrocarbon group or the like; R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently in each occurrence represent a C1-C12 aliphatic hydrocarbon group, or the like; and A + represents an organic counter ion.
申请公布号 TW201529542 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW103143221 申请日期 2014.12.11
申请人 住友化学股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 増山达郎 MASUYAMA, TATSURO;市川幸司 ICHIKAWA, KOJI;荒木香 ARAKI, KAORU
分类号 C07C309/07(2006.01);G03F7/004(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C07C309/07(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄陈昭诚
主权项
地址 日本 JP