| 主权项 |
一种基板处理装置，系以电浆处理基板的基板处理装置，其特征为具备：容器，其系具有形成供处理基板之用的处理空间之第1容器构件，以及在被安装于前述第1容器构件的状态下形成与前述处理空间连通的电浆生成用的电浆生成空间之第2容器构件；气体导入部，系对前述容器导入气体；电浆生成部，系具有以藉由来自电源的高频电压的供电导致的电场激发电浆生成空间内的前述气体的天线；以及基板保持部，系于前述处理空间可以保持前述基板；前述容器，使前述处理空间以及前述电浆生成空间，与大气压下的外部空间隔离，前述第2容器构件(104)，具有侧壁部(120)与被形成于前述侧壁部(120)的上端侧的屋顶部(122)；前述侧壁部(120)及前述屋顶部(122)系以透过紫外光的物质构成；前述第2容器构件的前述侧壁部(120)之前述外部空间侧的表面以及前述屋顶部(122)之前述外部空间侧的表面，被形成含有半导体材料的露出于前述外部空间的覆盖膜；前述天线系沿着前述侧壁部之前述外部空间侧的表面设置，前述天线的供电点设在面对被形成于前述侧壁部的前述外部空间侧的表面之前述覆盖膜的位置。
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