发明名称 利用两温度感测装置来控制CVD反应器之处理室内之温度的装置与方法
摘要 本发明系有关一种用于对至少一个基板(9)进行热处理、特别是涂布之装置与方法,包括有加热装置(11),此加热装置系由与第一温度感测装置(7,12)共同作用的控制装置(13)控制。为了消除温度漂移,提供第二温度感测装置(8)以识别第一温度感测装置(7,12)之温度漂移,且对该第一温度感测装置(7,12)进行再校准。第一温度感测装置(7,12)测定基座(10)之第一位置(M1,M2,M3,M4,M5,M6)处的温度。第二温度感测装置测定基座(10)之第二位置处的温度。在测量区间内,用第二温度感测装置(8)测量基板(9)之表面温度。将其测量值与标称值相比较,其中,在该标称值偏离测得实际值之情况下形成一个校正因数,为第一温度感测装置(7,12)用于控制加热装置(11)之测量值而加载该校正因数,以便使第二温度感测装置(8)所测得之温度实际值接近对应的温度标称值。
申请公布号 TW201529884 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW103144030 申请日期 2014.12.17
申请人 爱思强欧洲公司 AIXTRON SE 发明人 博伊德 亚登 BOYD, ADAM;劳佛 彼得 塞巴德 LAUFFER, PETER SEBALD;林德纳 约翰尼斯 LINDNER, JOHANNES;席尔瓦 休果 SILVA, HUGO;列尔斯 阿恩 THERES, ARNE
分类号 C23C16/52(2006.01) 主分类号 C23C16/52(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣宿希成
主权项
地址 德国 DE