发明名称 |
使用原子层沈积之彩色图案列印;PRINTING OF COLORED PATTERN USING ATOMIC LAYER DEPOSITION |
摘要 |
一种使用原子层沈积(ALD)将不同厚度之一材料层沈积在一基板上以形成展现不同色彩之图案之设备。可使用在一二维平面中在该基板上方沿着一路径移动同时将前驱气体喷射至该基板上之一列印头形成该等图案。图案沿着该列印头沿其移动之该路径而形成在该基板上。入射在该基板上之该材料层上之光之折射使经沈积材料展现不同色彩。色彩改变系由薄膜干涉引起,该薄膜干涉系由干涉藉由该经沈积材料之上部及下部边界反射之光波而引起。 |
申请公布号 |
TW201529878 |
申请公布日期 |
2015.08.01 |
申请号 |
TW103133652 |
申请日期 |
2014.09.26 |
申请人 |
维克ALD公司 VEECO ALD INC. |
发明人 |
朴 山穆尔S PAK, SAMUEL S.;杨 辉硕 YANG, HYO-SEOK;李相忍 LEE, SANG IN |
分类号 |
C23C16/04(2006.01);C23C16/00(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |