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发明名称
光学材料用组成物及其制造方法
摘要
根据本发明,藉由含有下述(a)化合物、下述(b)化合物、(c)聚硫醇、及(d)硫之光学材料用组成物,从铸模之脱模性为良好且可抑制剥离痕迹残留之不良产生。;(a)化合物:具有下述(1)式所表示之构造之化合物(式中,m为0~4之整数、n为0~2之整数。);(b)化合物:具有下述(2)式所表示之构造之化合物(式中,m为0~4之整数、n为0~2之整数。)
申请公布号
TW201529661
申请公布日期
2015.08.01
申请号
TW103142850
申请日期
2014.12.09
申请人
三菱瓦斯化学股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人
堀田明伸 HORITA, AKINOBU;今川阳介 IMAGAWA, YOUSUKE;嘉村辉雄 KAMURA, TERUO;堀越裕 HORIKOSHI, HIROSHI
分类号
C08K5/45(2006.01);C08L81/04(2006.01);C08K3/06(2006.01);G02B1/04(2006.01);G02C7/02(2006.01);C07D409/12(2006.01)
主分类号
C08K5/45(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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