浸没曝光设备、浸没曝光方法和元件制造方法;IMMERSION EXPOSURE APPARATUS, IMMERSION EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的装置和方法系被揭示。该装置和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16)，以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202)，该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时，一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。