发明名称 真空镀膜设备
摘要
申请公布号 TWM506150 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW104202837 申请日期 2015.02.17
申请人 广欣电能有限公司 发明人 陈庆丰;陈敬尧
分类号 C23C14/56 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人 高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种真空镀膜设备,适用于在一基板上镀膜,并包含:一真空腔体,包括一界定出一腔室的腔壁,该腔室包括二相邻且未受隔开而相连通的镀膜空间,该等镀膜空间皆可供该基板进行镀膜制程;及一抽气帮浦,连接该真空腔体,用于对该等镀膜空间抽真空,该抽气帮浦具有一位于该等镀膜空间之间的抽气口,该抽气帮浦可在一第一抽气模式与一第二抽气模式间切换,该第一抽气模式的抽气效率大于该第二抽气模式的抽气效率,所述抽气效率是指单位时间所抽走的气体体积。
地址 基隆市安乐区乐利三街303号2楼