发明名称 附载体铜箔、覆铜积层板、印刷配线板、电子机器、及印刷配线板之制造方法
摘要 提供一种尺寸稳定性优异,具有良好之电路形成性的附载体铜箔。一种附载体铜箔,其极薄铜层之厚度为1~9μm,关于使用有附载体铜箔之覆铜积层体,载体之自极薄铜层的剥离强度为2~50g/cm,将覆铜积层体于220℃加热4小时的时候,产生于上述载体与极薄铜层之间且使极薄铜层表面变形之膨胀为20个/dm 2 以下,将覆铜积层体于220℃加热4小时后,将上述载体从极薄铜层剥离时,于极薄铜层确认到之针孔为400个/m 2 以下。
申请公布号 TW201529295 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW103130215 申请日期 2014.09.02
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 发明人 石井雅史 ISHII, MASAFUMI;本多美里 HONDA, MISATO;宫本宜明 MIYAMOTO, NOBUAKI
分类号 B32B15/04(2006.01);B32B15/20(2006.01);B32B7/04(2006.01);H05K1/09(2006.01);B32B15/088(2006.01);H05K3/38(2006.01);H05K3/00(2006.01) 主分类号 B32B15/04(2006.01)
代理机构 代理人 阎启泰林景郁
主权项
地址 日本 JP