曝光装置及元件制造方法

摘要

藉由水压衬垫32与水压衬垫34，来挟持晶圆W及装载该晶圆之台TB。藉由水压衬垫32，该轴承面与晶圆W于投影光学系统PL光轴方向之间隔，被维持在既定尺寸。又，由于水压衬垫不同于空气静压轴承，系利用轴承面与支持对象物(基板)间之非压缩性流体(液体)之静压，故轴承之刚性高，轴承面与基板间之间隔稳定，且保持一定。又，液体(例如纯水)之黏性较气体(例如空气)为高，液体之振动衰减性较气体良好。因此，不一定需要设置焦点位置检测系统等，即能实现在无散焦的情形下将图案转印至晶圆(基板)上。