发明名称 铁磁材料溅镀靶
摘要
申请公布号 TWI494453 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW099135411 申请日期 2010.10.18
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 发明人 佐藤敦;荒川笃俊
分类号 C23C14/34;C22C19/07 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种铁磁材料溅镀靶,系由20mol%以下的Cr、剩余部分为Co之组成的金属所构成,其特征在于:该靶之组织具有金属基材(A)及该(A)中的球形相(B),该球形相(B)含有90wt%以上之Co且长径与短径之差为0~50%。
地址 日本