发明名称 光阻下层膜形成用组成物
摘要
申请公布号 TWI494700 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW097118901 申请日期 2008.05.22
申请人 JSR股份有限公司 发明人 能村仲笃;今野洋助
分类号 G03F7/11;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光阻下层膜形成用组成物,其系含有(A)含羟基之树脂、(B)具有丁醚基之交联剂及(C)溶剂,其特征为前述(A)树脂系由具有下述式(3)或(6)中任一项之构造单位之聚合物所构成者,式(3)之-OR3或式(6)之-R10之至少一方为羟基,前述(B)交联剂系具有至少2个丁醚基且具有三嗪骨架之含氮环状化合物;[R3系表示氢原子或1价之有机基,R4、R5系互相独立,表示1价之原子或1价之有机基],[式中,R10系表示羟基、可具有碳数1~6之取代基之烷基、可具有碳数1~6之取代基之烷氧基、可具有碳数2~10之取代基之烷氧羰基、可具有碳数6~14之取代基之芳香基、或可具有碳数2~6之取代基之缩水甘油醚基,n系0~6之整数,但,n在2~6时,复数之R10系相同或相异皆可,X系表示可具有碳数2~20之取代基之伸烷基、可具有碳数6~14之取代基之伸芳香基、或伸烷醚基,m系1~8之整数,m在2~8时,复数之X系相同或相异皆可,另外,n+m系1~8之整数]。
地址 日本