| 发明名称 |
用于蚀纹单晶及多晶矽基板表面之酸性蚀刻溶液及方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI494416 |
申请公布日期 |
2015.08.01 |
| 申请号 |
TW099131888 |
申请日期 |
2010.09.20 |
| 申请人 |
巴地斯颜料化工厂 |
发明人 |
布朗恩 赛门;波尔伯 茱莉安;米尼克 艾赫;米契 麦可;玛斯森 史帝芬 |
| 分类号 |
C09K13/08;H01L21/306;H01L31/00 |
主分类号 |
C09K13/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
| 主权项 |
一种适合用于蚀纹单晶及多晶矽基板之表面之酸性蚀刻水溶液，该溶液含有其总重之3%至10重量%之氢氟酸；10%至35重量%之硝酸；5%至40重量%之硫酸；及55%至82重量%之水。
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| 地址 |
德国 |
