发明名称 |
利用具有电浆蚀刻之混合式多步骤雷射划线制程的晶圆切割 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI494983 |
申请公布日期 |
2015.08.01 |
申请号 |
TW103117342 |
申请日期 |
2013.04.03 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
雷伟生;伊顿贝德;亚拉曼奇里麦德哈瓦饶;辛沙拉杰特;库默亚杰 |
分类号 |
H01L21/304;B23K26/06;B23K26/36 |
主分类号 |
H01L21/304 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种切割一半导体晶圆的方法,该半导体晶圆包含复数个积体电路,该方法包含以下步骤:形成一遮罩于该半导体晶圆上,该遮罩包含覆盖及保护该等积体电路的一层;以一多步骤雷射划线制程图案化该遮罩及该半导体晶圆的一部分,以提供一图案化遮罩与在该半导体晶圆中之该等积体电路间的多个沟槽,该多步骤雷射划线制程包含以下步骤:利用二或更多偏移、但重叠的高斯光束通来划线;及,随后,利用重叠该等高斯光束通的一高帽光束通来划线;及电浆蚀刻该半导体晶圆以延伸该等沟槽与单粒化该等积体电路。
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地址 |
美国 |