发明名称 |
具有可调节之机械模数Guv的光聚合物配制物 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI494691 |
申请公布日期 |
2015.08.01 |
申请号 |
TW099137568 |
申请日期 |
2010.11.02 |
申请人 |
拜耳材料科学股份有限公司 |
发明人 |
维斯尔 马可史帝分;罗尔 汤玛士;布鲁德 佛瑞德里奇;费克 汤玛士;侯奈尔 丹尼斯 |
分类号 |
G03F7/028;G03H1/02;G11B7/245 |
主分类号 |
G03F7/028 |
代理机构 |
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代理人 |
黄庆源 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;陈彦希 台北市大安区敦化南路1段245号8楼 |
主权项 |
一种已曝光之包含光聚合物配制物的全像媒介的制造方法,其具有范围介于0.1至160MPa的模数GUV及△n0.008其中:i)提供光聚合物配制物,包含A)基质聚合物作为非晶形网路B)单官能基写入单体与多官能基写入单体的组合C)光引发剂系统D)选择性的非光可聚合的成分E)选择性的催化剂、自由基稳定剂、溶剂、及塑化剂、流平剂、或黏着促进剂;ii)使该光聚合物配制物成为媒介形式;iii)使该媒介受到全像曝光实验以记录全像图;及iv)将该媒介整个曝露至UV辐射以固定该全像图;该写入单体为丙烯酸酯及/或丙烯酸甲酯官能基化的化合物,该写入单体在该光聚合物配制物中的总含量为30重量%至45重量%;该未曝光之光聚合物配制物具有<0.7MPa的模数G0,藉着以该写入单体总含量为准该单官能基写入单体部分相对于该多官能基写入单体部分的比值俾以在以该写入单体总含量为准由相对高比例的多官能基写入单体实现高模数且由相对高比例的单官能基写入单体实现低模数,将该已曝光之光聚合物配制物的模数GUV调整至0.1至160MPa的
期望范围中。 |
地址 |
德国 |