发明名称 用于移除高密度经掺杂光阻之低pH混合物
摘要
申请公布号 TWI494710 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW098114665 申请日期 2009.05.01
申请人 恩特葛瑞斯股份有限公司;万国商业机器公司 发明人 库柏 艾曼纽;西塞尔 裘莉;周仁杰;柯珊斯基 麦可B
分类号 G03F7/42;C11D7/18;C11D7/08 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种低pH组合物,其包含以该组合物之总重量计之自80%至99.9%之至少一种无机酸及0.1重量%至20重量%之至少一种氧化剂,其中该至少一种氧化剂包含至少一种含碘氧化剂及/或至少一种含金属离子之氧化剂,其中该至少一种含碘氧化剂包含一种选自由以下组成之群的物质:过碘酸、偏过碘酸、原过碘酸、过碘酸钠、过碘酸钾、过碘酸铵及过碘酸钙、碘酸钠、碘酸钾、碘酸钙、碘及其组合;其中该至少一种无机酸包含一种选自由以下组成之群的酸:硫酸、甲磺酸、三氟甲磺酸、过氯酸、三氟乙酸、硝酸、焦硫酸、焦磷酸、聚偏磷酸、磷酸、硫酸氢铵及其组合;其中该至少一种含金属离子之氧化剂包含一种选自由由以下组成之群的物质:高锰酸钾、高锰酸铯、高锰酸钠、高锰酸铵、高锰酸四丁基铵及其组合;且其中该组合物系适用于自上面具有主体及/或硬化光阻材料之微电子装置移除该光阻材料。
地址 美国