摘要 |
<p>本発明は、微小なスクラッチ等の表面欠陥を低減でき、遊離砥粒による研磨加工を研磨レートの低下を伴うことなく可能とし、次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明は、SiO2を主成分とし、二価のアルカリ土類金属を含むガラスからなるガラス基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨砥粒を含む研磨液を供給することでガラス基板の主表面を研磨する研磨工程において、研磨砥粒はコロイダルシリカであり、上記研磨液は酸性域に調整され、かつアルミニウムイオンを含有する。</p> |