| 摘要 |
定在波用平面波照明部４０，５０によって、光源部３０からの光を用いて二光波の平面波４１，５１を生成し、生成した二光波の平面波４１，５１を試料面２３上で干渉させて生成される定在波による照明を試料面２３に対して行なう。さらに、バイアス平面波照明部６０によって、定在波の電場変位が試料面２３上の各位置で値０になる基準時期を境にして電場変位が試料面２３上で位置に拘わらず等しい変位をもって正側と負側とに交互に振れるよう定在波に同期し、且つ、試料面２３上での定在波の電場変位を丁度正側のみまたは負側のみとなるまで嵩上げする振幅として予め定められたバイアス用振幅（定常波と等しい値２Ａの振幅）で振動するバイアス平面波６１を、光源部３０からの光を用いて生成し、生成したバイアス平面波６１による照明を試料面２３に対して行なう。 |
