| 摘要 |
<p>基板上に第１の導電層、基板に対して直交する方向に貫通する複数のコンタクトホールが形成された誘電体層、コンタクトホール内で第１の導電層と電気的に接続するとともにコンタクトホール内を充填する第２の導電層、発光層および第３の導電層とが順に積層されたエレクトロルミネッセント素子を製造する1回目のエレクトロルミネッセント素子の製造（第１の製造工程）と、第１の製造工程で製造されたエレクトロルミネッセント素子の第１の導電層および第３の導電層に電圧を印加し発光層を発光させるとともにエレクトロルミネッセント素子の温度分布を測定してエレクトロルミネッセント素子の温度ムラ情報を得る温度分布測定工程と、温度ムラ情報を基に、誘電体層を貫通する複数のコンタクトホールの密度を調整してエレクトロルミネッセント素子の温度ムラを低減する２回目のエレクトロルミネッセント素子の製造（第２の製造工程）と、を行なう製造方法により、発光面における温度ムラを低減し、長寿命のエレクトロルミネッセント素子が得られる。</p> |
