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发明名称
光水分解反応用電極およびその製造方法
摘要
光触媒による光吸収を妨げることなく、光触媒層と集電層間の導電パスを増大させることが可能な、光水分解反応用電極を提供する。光触媒層10と、集電層30と、光触媒層10および集電層30の間に設けられた半導体または良導体を含むコンタクト層20と、を備え、コンタクト層20が、光触媒層10の集電層30側の形状に沿って設けられている、光水分解反応用電極とする。
申请公布号
JPWO2013133338(A1)
申请公布日期
2015.07.30
申请号
JP20140503520
申请日期
2013.03.06
申请人
国立大学法人 東京大学
发明人
嶺岸 耕;堂免 一成;久保田 純
分类号
B01J35/02;B01J27/24;B01J37/02;C01B3/04;C01B21/06;C25B1/04;C25B9/00;C25B11/06
主分类号
B01J35/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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