发明名称 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
摘要 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、炭素数4〜20の2価の多環の脂環式炭化水素基である。R2は、炭素数3〜20の1価の単環又は多環の脂環式炭化水素基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。[A]重合体は、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びスルトン構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を含む構造単位をさらに有することが好ましい。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位をさらに有することが好ましい。
申请公布号 JPWO2013133230(A1) 申请公布日期 2015.07.30
申请号 JP20140503845 申请日期 2013.03.04
申请人 JSR株式会社 发明人 松田 恭彦;池田 憲彦;宮田 拡
分类号 G03F7/039;C07C69/54;C08F120/16 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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