发明名称 |
パワー半導体装置及びその製造方法並びにボンディングワイヤ |
摘要 |
パワー半導体装置の電流容量の大容量化、高温環境での使用に際し、熱応力が発生しても問題なく使用でき、ワイヤ自身の発熱を低減でき、高温環境でも接合部の信頼性を確保することができるパワー半導体装置及びその製造方法並びにボンディングワイヤを提供することを課題とする。パワー半導体素子2上の金属電極(素子電極3)ともう一方の金属電極(接続電極4)とを金属ワイヤ5によって双方ともウェッジ接続したパワー半導体装置1において、金属ワイヤ5は直径50μm超2mm以下のAg又はAg合金ワイヤであり、素子電極3は表面に50Å厚以上のNi、Cr、Cu、Pd、V、Ti、Pt、Zn、Ag、Au、W、Alの金属層又はこれらの合金層を1層以上有する。これにより、Agワイヤを用いるにもかかわらず電極との接合部信頼性を確保でき、大電流での使用時に金属ワイヤ自身の発熱を低減でき、高温での耐熱性を改善することができる。 |
申请公布号 |
JPWO2013129253(A1) |
申请公布日期 |
2015.07.30 |
申请号 |
JP20140502176 |
申请日期 |
2013.02.22 |
申请人 |
日鉄住金マイクロメタル株式会社;学校法人早稲田大学 |
发明人 |
巽 宏平;山田 隆;小田 大造 |
分类号 |
H01L21/60;H01L25/07;H01L25/18 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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