带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序

摘要

本发明的目的在于提供一种带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序，其高精确度地控制带电粒子束的照射量。本发明的带电粒子束照射装置(100)具备：扫描磁铁(3)，在被照射物(52)上扫描带电粒子束(R)；照射量设定部(10)，设定带电粒子束(R)在通过扫描磁铁(3)在被照射物上扫描的带电粒子束(R)的扫描线(L)上各目标扫描位置上的照射量；及扫描速度设定部(11)，根据被设定的照射量，设定带电粒子束在各个目标扫描位置上的目标扫描速度。

主权项

一种带电粒子束治疗装置，其为对被照射物照射带电粒子束的装置，该被照射物为患者体内的肿瘤，所述带电粒子束治疗装置的特征在于，具备：扫描机构，扫描被照射至所述被照射物的所述带电粒子束；照射量设定机构，设定所述带电粒子束在通过所述扫描机构在所述被照射物上扫描的所述带电粒子束的扫描线上的多个目标扫描位置的每个上的照射量；扫描速度设定机构，根据通过所述照射量设定机构设定的照射量，设定所述带电粒子束在各个所述目标扫描位置上的目标扫描速度；控制机构，控制所述扫描机构，以使所述带电粒子束根据所述目标扫描位置及所述目标扫描速度在所述被照射物上扫描；以及射束强度检测机构，检测所述带电粒子束的射束强度；当由所述射束强度检测机构检测的所述射束强度向规定的误差范围外变动时，所述控制机构调整基于所述扫描机构的扫描速度，以相互抵消该变动。