发明名称 分析装置
摘要 提出了一种分析装置,能够处理多种成分的分析,同时抑制装置尺寸的增大。分析装置(1)配置有发光单元(10)、透射式光谱滤光器(22)、光检测器(23)和分析单元(31)。光谱滤光器(22)配置有:光透射基板;多个凸部,在基板的一个表面上以第一金属材料形成;和金属膜,由折射率比第一金属材料高的第二金属材料形成,覆盖前述表面和凸部。凸部设置为使得位于凸部之间的金属膜用作衍射光栅,且凸部用作波导。针对光谱滤光器的每一部分将衍射光栅的光栅周期、凸部的高度和金属膜的厚度设为不同值,使得光谱滤光器透射的光的波长在每一部分处不同。光检测器(23)设置为使得每一光接收元件(24)接收光谱滤光器的透射光。分析单元(31)从光接收元件(24)的输出信号获取对象(40)的光谱。
申请公布号 CN102812346B 申请公布日期 2015.07.29
申请号 CN201180015134.5 申请日期 2011.02.21
申请人 日本电气方案创新株式会社 发明人 上村一平
分类号 G01J3/02(2006.01)I;G01J3/10(2006.01)I;G01J3/18(2006.01)I;G01J3/36(2006.01)I;G01J3/42(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I;G01N21/31(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I 主分类号 G01J3/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 倪斌
主权项 一种分析装置,用于分析对象中包含的成分,所述分析装置包括:发光单元,所述发光单元用光照射所述对象;透射式光谱滤光器;光检测器,具有多个光接收元件;以及分析单元,其中所述光谱滤光器包括:光透射性的基板,设置在光由所述对象反射之后或者光透过所述对象之后的光路上;多个凸部,在所述基板的一个表面上以金Au或包括金Au的金属材料形成;以及金属氧化物膜,使用折射率比所述金属材料高且包括氧化钛的金属氧化物材料形成,以覆盖所述多个凸部和基板的所述一个表面,所述基板,使用包括氧化硅的形成材料形成,所述多个凸部设置为使得所述多个凸部各自的底面与所述基板的一个表面接触,并且存在于相邻凸部之间的金属氧化物膜用作衍射光栅,将所述衍射光栅的光栅间距、所述凸部的高度和所述金属氧化物膜的厚度中的至少一项,针对所述光谱滤光器的每一个部分而设置为不同值,使得透过所述光谱滤光器的光的波长针对每一个所述部分而改变,将所述光检测器设置为使得所述多个光接收元件中的每一个接收透过所述光谱滤光器的光,以及所述分析单元从分别由所述多个光接收元件输出的输出信号获取所述对象的光谱。
地址 日本东京都