| 发明名称 | 光刻工艺分配系统及分配方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种光刻工艺分配系统及分配方法，通过温度监测模块精确获取烘干模块温度变化所需的时间，并将其传输给分配模块，由此，分配模块在将等待的晶圆传输至工作模块时，便可将该温度变化所需的时间予以考虑，即可以在温度变化所需的时间内安排等待的晶圆进行其他工艺，由此便可提高光刻工艺生产线的生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN103365100B | 申请公布日期 | 2015.07.29 |
| 申请号 | CN201210091522.8 | 申请日期 | 2012.03.30 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 罗大杰 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种光刻工艺分配系统，其特征在于，包括：多个涂胶模块，用以对晶圆执行涂胶工艺；多个烘干模块，用以对晶圆执行烘干工艺；多个曝光模块，用以对晶圆执行曝光工艺；多个显影模块，用以对晶圆执行显影工艺；温度监测模块，用以监测所述烘干模块温度变化所需的时间，并将结果传输至一分配模块；分配模块，用以根据上述各个模块的状态以及所述烘干模块温度变化所需的时间将等待的晶圆传输至上述各个模块。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||