| 发明名称 | 底部抗反射涂层的涂布方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种底部抗反射涂层的涂布方法，至少包括以下步骤：S1：提供一基板，将所述基板放置于涂布设备腔体内的旋转台上；S2：在所述腔体内通入异丙醇蒸汽；S3：在所述基板上形成一底部抗反射涂层。本发明的底部抗反射涂层的涂布方法通过在涂布设备腔体内通入异丙醇蒸汽，可以有效防止形成的底部抗反射涂层表面发生相分离，提高后续曝光图形质量，减少缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN104810252A | 申请公布日期 | 2015.07.29 |
| 申请号 | CN201410035650.X | 申请日期 | 2014.01.24 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 王辉 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人 | 李仪萍 |
| 主权项 | 一种底部抗反射涂层的涂布方法，其特征在于，至少包括以下步骤：S1：提供一基板，将所述基板放置于涂布设备腔体内的旋转台上；S2：在所述腔体内通入异丙醇蒸汽；S3：在所述基板上形成一底部抗反射涂层。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||