两次扫描

摘要

本发明涉及二次扫描，具体提出一种根据图案数据将晶片曝光的带电粒子光刻系统，该系统包括：电子光学柱，用于生成曝光晶片的多个电子小束，所述电子光学柱包括用于将所述小束接通或切断的小束阻断器阵列；将用于控制所述小束的切换的小束控制数据提供给所述小束阻断器阵列的数据路径；和晶片定位系统，用于在所述电子光学柱下方以x-方向移动晶片，所述晶片定位系统被提供以来自所述数据路径的同步信号，以将所述晶片与来自所述电子光学柱的电子束对准；其中所述数据路径包括用于处理图案数据并生成所述小束控制数据的一个或多个处理单元和用于将所述小束控制数据传送到所述小束阻断器阵列的一条或多条传输信道。

主权项

一种根据图案数据将晶片曝光的带电粒子光刻系统(100)，该系统包括：电子光学柱(102)，用于生成曝光晶片的多个电子小束，所述电子光学柱包括用于将所述小束接通或切断的小束阻断器阵列(117)；将用于控制所述小束的切换的小束控制数据提供给所述小束阻断器阵列的数据路径(103)；和晶片定位系统(101)，用于在所述电子光学柱下方以x‑方向移动晶片，所述晶片定位系统被提供以来自所述数据路径的同步信号，以将所述晶片与来自所述电子光学柱的电子束对准；其中所述数据路径(103)包括用于处理图案数据并生成所述小束控制数据的一个或多个处理单元和用于将所述小束控制数据传送到所述小束阻断器阵列的一条或多条传输信道。