发明名称 导流座改良结构及具有该导流座的泵浦
摘要 本实用新型的导流座改良结构,其具有一皿体,该皿体的相对二端处分别形成一顶抵部与一延伸部,以及一肩部与一环侧部,该皿体装设于一泵浦的加压部,并于该皿体之间,以及该皿体与该加压部的基座间分别装设垫圈;透过将多个垫圈分别限位于多个皿体的顶抵部与延伸部及肩部与环侧部之间,以及,皿体的顶抵部与延伸部及基座的承抵部之间,并且,垫圈是截面为圆形且材质为橡胶的圈体,于垫圈受压迫后得以变形,填塞多个导流座之间及导流座与基座间的缝隙,从而防止流体于加压过程的渗漏,以改善垫圈受抵靠形成凹痕,以致流体渗漏的情形。
申请公布号 CN204511978U 申请公布日期 2015.07.29
申请号 CN201520150265.X 申请日期 2015.03.17
申请人 大井泵浦工业股份有限公司 发明人 黄秀雄
分类号 F04D29/40(2006.01)I;F04D29/08(2006.01)I 主分类号 F04D29/40(2006.01)I
代理机构 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 代理人 林柳岑
主权项 一种导流座改良结构,其特征在于,具有一皿体及一垫圈,该皿体具有一顶抵部、一延伸部、一肩部及一环侧部;该皿体的相对二端处分别形成一开口端及一封闭端,该顶抵部于开口端朝内弯折成形,该延伸部由该顶抵部径向朝该皿体内部凸伸形成,该皿体的封闭端中央形成一穿孔,该肩部及该环侧部形成于封闭端外缘处,该环侧部连接于该肩部;该垫圈抵靠于该皿体的顶抵部及延伸部。
地址 中国台湾新北市