基板、掩膜板及显示装置、对位方法

摘要

本发明公开了一种基板、掩膜板及显示装置、对位方法，涉及显示领域，能够减少构图设备在工作过程中发生对位出错的概率，从而提高设备的嫁动率。本发明提供一种对位方法，适用于利用同一掩膜板在同一基板上形成图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层，包括：当制作第一膜层时，将第一公用标记与第二公用标记对准完成掩膜板与基板对位，第一公用标记设置在基板上，第二公用标记设置在掩膜板上，与第一公用标记相对应；当制作第二膜层时，先将第一公用标记与第二公用标记对准，然后利用构图设备的偏差补正功能实现第二膜层与第一膜层的图形偏差，完成掩膜板与基板对位。本发明用于改进基板上对位标记的设计。

主权项

一种对位方法，适用于利用同一掩膜板在同一基板上形成图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层，其特征在于，包括：当制作第一膜层时，将第一公用标记与第二公用标记对准完成所述掩膜板与所述基板对位，所述第一公用标记设置在所述基板上，所述第二公用标记设置在所述掩膜板上，与所述第一公用标记相对应；当制作第二膜层时，先将所述第一公用标记与所述第二公用标记对准，然后利用构图设备的偏差补正功能实现所述第二膜层与所述第一膜层的图形偏差，完成所述掩膜板与所述基板对位。