| 发明名称 | 电子装置、曝光装置和图像形成装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供电子装置、曝光装置和图像形成装置。该电子装置包括：壳体，该壳体由导体形成；第一电缆，该第一电缆包括第一屏蔽层、排布在第一屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖导线组的第一绝缘层，并且该第一电缆被布置为使第一绝缘层与壳体接触；以及第二电缆，该第二电缆包括第二屏蔽层、排布在第二屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖导线组的第二绝缘层，并且该第二电缆堆叠在第一电缆上，以使第二绝缘层与第一屏蔽层接触。 | ||
| 申请公布号 | CN104808461A | 申请公布日期 | 2015.07.29 |
| 申请号 | CN201410638325.2 | 申请日期 | 2014.11.06 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 芳野一弘 |
| 分类号 | G03G15/04(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I;H01B7/08(2006.01)I;H01B7/17(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 王小东 |
| 主权项 | 一种电子装置，该电子装置包括：壳体，该壳体由导体形成；第一电缆，该第一电缆包括第一屏蔽层、排布在所述第一屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖所述导线组的第一绝缘层，并且该第一电缆被布置为使所述第一绝缘层与所述壳体接触；以及第二电缆，该第二电缆包括第二屏蔽层、排布在所述第二屏蔽层的一个表面上的导线组、以及覆盖所述导线组的第二绝缘层，并且该第二电缆堆叠在所述第一电缆上，以使所述第二绝缘层与所述第一屏蔽层接触。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||