溅镀装置及基板处理装置

摘要

溅镀装置设有挡板单元、多个靶材保持器、以及能够围绕与保持基板的表面垂直的轴线旋转的基板保持器。挡板单元包括第一挡板和第二挡板，所述第一挡板具有第一开口及第二开口，所述第二挡板具有第三开口及第四开口。靶材保持器设置在以上述轴线为中心的第一假想圆上，沿着第一假想圆的靶材保持器之间的距离组包含至少两种距离。沿着第二假想圆的从前述第一开口的中心延伸到前述第二开口的中心的弧的中心角等于沿着第三假想圆的从前述第三开口的中心延伸到前述第四开口的中心的弧的中心角，并且还等于从第一靶材保持器的中心延伸到第二靶材保持器的中心的弧的中心角，所述第一靶材保持器和第二靶材保持器是沿着第一假想圆彼此最远离的靶材保持器。

主权项

一种溅镀装置，所述溅镀装置包括：腔室、基板保持器和多个靶材保持器，所述基板保持器被配置成在所述腔室中保持基板并围绕与保持所述基板的表面垂直的轴线旋转，所述多个靶材保持器被配置成分别保持靶材，所述溅镀装置包括：挡板单元，所述挡板单元配置成从被所述多个靶材保持器分别保持的多个靶材中选择将被用于溅镀的靶材，其中，所述挡板单元包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板及第二挡板被配置成围绕所述轴线旋转且在沿着所述轴线的方向上彼此间隔开，所述多个靶材保持器布置在以所述轴线为中心的第一假想圆上，所述第一假想圆上的所述多个靶材保持器之间的布置间隔包括至少两种布置间隔，所述第一挡板具有第一开口及第二开口，所述第一开口及所述第二开口各自的中心被布置在以所述轴线为中心的第二假想圆上，所述第二挡板具有第三开口及第四开口，所述第三开口及所述第四开口各自的中心被布置在以所述轴线作为中心的第三假想圆上，并且所述第二假想圆上的、两端分别对应于所述第一开口及所述第二开口各自的中心的弧的中心角等于所述第三假想圆上的、两端分别对应于所述第三开口及所述第四开口各自的中心的弧的中心角，且等于两端分别对应于所述多个靶材保持器中的第一假想圆上间隔最大的第一靶材保持器和第二靶材保持器各自的中心的弧的中心角。