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发明名称 POLISHING COMPOSITION
摘要 보존 안정성이 양호하고, 화학 반응성이 부족한 연마 대상물을 고속으로 연마할 수 있는 연마용 조성물을 제공한다. 본 발명은, 유기산을 표면에 고정한 실리카와, 분자량이 2만 미만인 2가 알코올과, pH 조정제를 포함하고, pH가 6 이하인, 연마용 조성물이다.
申请公布号 KR20150087221(A) 申请公布日期 2015.07.29
申请号 KR20157012398 申请日期 2013.10.25
申请人 FUJIMI INCORPORATED 发明人 YOKOTA SHUUGO;SAKABE KOICHI
分类号 C09K3/14;B24B37/00;H01L21/3105 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
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