发明名称 |
晶圆切割装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种晶圆切割装置,包括激光器,扩束镜,反射镜,聚焦系统,水导系统和工作台,将待切割的晶圆置于工作台上,激光器产生的激光,依次经扩束镜,反射镜,后进入聚焦系统,聚焦系统射出的聚焦激光经由水导系统变成激光水柱射到工作台上,进行晶圆切割。本实用新型的聚焦系统为双聚焦系统,在晶圆的表面和内部产生前后两个焦点,提高切割速率,本实用新型的经聚焦的光束经水导系统随去离子水从喷嘴射出,聚焦激光仅在水柱直径内烧蚀并切割晶圆,热影响区小,提高加工质量,且切割速率高。 |
申请公布号 |
CN204505584U |
申请公布日期 |
2015.07.29 |
申请号 |
CN201420824803.4 |
申请日期 |
2014.12.23 |
申请人 |
苏州凯锝微电子有限公司 |
发明人 |
刘思佳 |
分类号 |
B28D5/04(2006.01)I |
主分类号 |
B28D5/04(2006.01)I |
代理机构 |
南京纵横知识产权代理有限公司 32224 |
代理人 |
董建林 |
主权项 |
晶圆切割装置,其特征在于,包括激光器,扩束镜,反射镜,聚焦系统,水导系统和工作台,所述待切割的晶圆置于工作台上,所述激光器产生的激光,依次经扩束镜,反射镜,后进入聚焦系统,聚焦系统射出的聚焦激光经由水导系统变成激光水柱射到工作台上。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市高新技术产业开发区珠江路525号 |