| 发明名称 | 基板处理装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明在于提供一种利用工艺气体对基板进行处理的装置和方法。基板处理装置包括：腔室，其内部提供有执行处理基板的工艺的处理空间；以及检测单元，其检测附着于所述腔室的内壁的反应副产物的量。其中，所述检测单元包括：窗口部件，其配置于所述腔室的内壁；以及光源部件，其通过所述窗口部件发射和接收光。在腔室的内壁设置窗口部件，并通过窗口部件发射和接收光而测定其腔室的内部状态。因此能够更加精确地测定其腔室的内壁状态。 | ||
| 申请公布号 | CN104810308A | 申请公布日期 | 2015.07.29 |
| 申请号 | CN201510046660.8 | 申请日期 | 2015.01.29 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 咸龙炫;禹亨济;金炫中;朴玩哉;韩圭荣 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 吕琳;杨生平 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其中，该基板处理装置包括：腔室，其内部提供有执行处理基板的工艺的处理空间；以及检测单元，其检测附着于所述腔室的内壁的反应副产物的量，其中，所述检测单元包括：窗口部件，其配置于所述腔室的内壁；以及光源部件，其通过所述窗口部件发射和接收光。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道天安市 | ||