磁控溅射镀膜机

摘要

本发明涉及一种磁控溅射镀膜机，其包括进片室、镀膜室、过渡室、出片室以及用于承载镀膜基片的基片架，所述镀膜室包括两个以上镀膜室，所述过渡室具有进料端和出料端，所述进片室衔接于过渡室的进料端以将基片架送到过渡室，所述出片室衔接于过渡室的出料端以接收过渡室送出的基片架，每个镀膜室分别连通于所述过渡室，所述过渡室用于将基片架在各镀膜室之间切换，使每个镀膜室分别对基片架上的基片进行镀膜。上述镀膜机用一个过渡室连通两个以上镀膜室，充分利用过渡室过渡，连续地在一个镀膜机中进行多种膜材的镀膜操作，提高生产节拍和生产效率，降低生产成本。

主权项

一种磁控溅射镀膜机，其包括进片室、镀膜室、过渡室、出片室以及用于承载镀膜基片的基片架，其特征在于，所述镀膜室包括两个以上镀膜室，所述过渡室具有进料端和出料端，所述进片室衔接于过渡室的进料端以将基片架送到过渡室，所述出片室衔接于过渡室的出料端以接收过渡室送出的基片架，每个镀膜室分别连通于所述过渡室，所述过渡室用于将基片架在各镀膜室之间切换，使每个镀膜室分别对基片架上的基片进行镀膜。