发明名称 |
一种晶圆表面平坦化工艺 |
摘要 |
本发明提供一种晶圆表面平坦化工艺,包括以下步骤:在有台阶的晶圆表面形成第一正硅酸乙酯层;在所述第一正硅酸乙酯层上形成旋涂玻璃层,所述旋涂玻璃层在非台阶处的厚度大于在台阶处的厚度;对形成旋涂玻璃层后的晶圆依次进行烘烤和离子注入;在离子注入后的所述旋涂玻璃层上形成第二正硅酸乙酯层;在所述第二正硅酸乙酯层上形成光刻胶层;对所述光刻胶层和所述第二正硅酸乙酯层进行回刻;去除回刻残留的光刻胶,并对晶圆进行清洗。该工艺采用光刻胶层替代第二旋涂玻璃层,并采用光刻胶回刻技术,不但简化了工艺流程,极大程度的节约成本,而且大大降低了钨火山现象的发生,利于封装打线。 |
申请公布号 |
CN104810277A |
申请公布日期 |
2015.07.29 |
申请号 |
CN201410037579.9 |
申请日期 |
2014.01.26 |
申请人 |
北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
发明人 |
由云鹏;潘光燃;王焜;石金成 |
分类号 |
H01L21/312(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/312(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
刘芳 |
主权项 |
一种晶圆表面平坦化工艺,其特征在于,包括以下步骤:在有台阶的晶圆表面形成第一正硅酸乙酯层;在所述第一正硅酸乙酯层上形成旋涂玻璃层,所述旋涂玻璃层在非台阶处的厚度大于在台阶处的厚度;对形成旋涂玻璃层后的晶圆依次进行烘烤和离子注入;在离子注入后的所述旋涂玻璃层上形成第二正硅酸乙酯层;在所述第二正硅酸乙酯层上形成光刻胶层;对所述光刻胶层和所述第二正硅酸乙酯层进行回刻;去除回刻残留的光刻胶,并对晶圆进行清洗。 |
地址 |
100871 北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦9层 |