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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 According to an embodiment of the present invention, a photoresist composition includes: acid-reactive polymer which can be decomposed by a reaction with acids; photo-acid generator; 9 pKa or below 9 pKa of organic base; and solvent.
申请公布号 KR20150086685(A) 申请公布日期 2015.07.29
申请号 KR20140006654 申请日期 2014.01.20
申请人 SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.;DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. 发明人 CHUN, JUN;PARK, JEONG MIN;PARK, SUNG KYUN;KIM, JI HYUN;JU, JIN HO;YOUN, HYOC MIN;KIM, DONG MYUNG;KIM, JIN SUN;YEO, TAI HOON;KIM, BYUNG UK
分类号 G03F7/004;G02F1/13;G03F7/028;G03F7/26;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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