发明名称 一种二级微位移放大结构
摘要 本实用新型涉及功能薄膜应力测量结构。本实用新型的一种二级微位移放大结构,包括:固定梁、旋转梁、指针梁、刻度尺、固定梁连接颈、旋转梁连接颈、指针梁连接颈和固定端。薄膜应力测量结构在薄膜上采用刻蚀技术制备,固定梁的一端连接在固定端,在薄膜下方的牺牲层去除之后,由于薄膜内部的残余应力作用,固定梁产生的伸缩位移通过固定梁连接颈传递给旋转梁,旋转梁将位移进行一级放大,放大后的位移然后经指针梁连接颈传递给指针梁,在对称布置的两个指针梁连接颈的作用下对位移二次放大,二次放大后的位移转变为指针梁的左右摆动,指针梁尖端摆动的值通过刻度尺上的刻度读出。结构简单、位移放大倍数高。
申请公布号 CN204514510U 申请公布日期 2015.07.29
申请号 CN201520060445.9 申请日期 2015.01.29
申请人 厦门大学 发明人 郑建毅;王俊清;杨群峰;林俊辉;赵雪楠
分类号 G01L1/00(2006.01)I 主分类号 G01L1/00(2006.01)I
代理机构 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 代理人 巫丽青
主权项 一种二级微位移放大结构,其特征在于:在薄膜上采用刻蚀技术制备,包括:两对分别呈中心对称设置的第一固定端和第二固定端,他们均由形成于基片上的牺牲层和形成于牺牲层上的待测薄膜构成,一对呈中心对称设置的固定梁,两固定梁的一端分别连接在两第一固定端,一对呈中心对称设置的旋转梁,两旋转梁分别通过固定梁连接颈与两固定梁的另一端连接,两旋转梁的一端通过旋转梁连接颈与第二固定端连接,一个具有中心对称结构的指针梁,其对称中心两侧分别通过两根中心对称的指针梁连接颈与两根旋转梁的另一端连接,一对呈中心对称设置的刻度尺,其形成于基片上的牺牲层和形成于牺牲层上的待测薄膜构成,其为配置与所述基片上的梳齿结构,两刻度尺分别相对于指针梁的指针设置,用于配合读取所示指针梁的摆动值,薄膜下方的牺牲层去除后,薄膜内部的残余应力作用下,固定梁产生的伸缩位移经过旋转梁的伸缩位移通过固定梁连接颈传递给旋转梁,旋转梁将位移进行一级放大,放大后的位移然后经指针梁连接颈传递给指针梁,在指针梁连接颈的作用下对位移二次放大,二次放大后的位移转变为指针梁的左右摆动,指针梁尖端摆动的值通过刻度尺上的刻度读出。
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