| 摘要 |
기판 처리 장치는, 기판의 상면의 중앙부에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급부, 기판을 회전시키는 기판 회전 기구, 챔버의 내부 공간의 압력을 변경하는 가스 공급부 및 흡인부를 구비한다. 기판 처리 장치에서는, 챔버의 내부 공간을 감압 분위기로 한 상태로, 기판을 회전시키면서 기판의 상면 상에 제1 처리액이 공급됨으로써, 제1 처리액이 상면 상에서 중앙부로부터 외주부로 신속하게 확산된다. 이에 의해, 제1 처리액에 의한 기판의 상면의 피복을 상압하에 비해 단시간에 행할 수 있다. 또, 흡인부에 의해 기판의 에지 근방으로부터 제1 처리액을 흡인함으로써, 제1 처리액에 의한 기판의 상면의 피복을 더욱 단시간에 행할 수 있다. 그 결과, 기판의 처리에 필요로 하는 시간을 짧게 할 수 있다. |
