| 摘要 |
<p>실질적으로 편평한 반도체 기판을 스크라이빙하기(scribe) 위해 사용되는 레이저 스크라이빙 장치에서 빔 특성화(beam characterization)를 수행하는 방법으로서, 상기 장치는, 상기 기판이 클램핑될 수 있는 이동식 기판 홀더 - 상기 기판은 적어도 하나의 스크라이브 레인(scribelane)을 따라 스크라이빙되는 타겟 표면을 제공하도록 상기 이동식 기판 홀더의 클램핑 존에 클램핑됨 - 와, 적어도 하나의 레이저 빔을 광축(optical axis)을 따라 상기 타겟 표면쪽으로 향하게 하는데 사용될 수 있는 레이저 광원을 포함하고, 상기 방법은, 스크라이빙 프로세스를 관측 및 제어하기 위해 사용될 수 있는 이미지 기록 디바이스를 제공하는 단계 - 상기 이미지 기록 디바이스는 시야(a field of view)에 수직인 시야축(viewing axis)을 구비한 상기 시야를 갖음 - 와, 상기 클램핑 존의 외측에 상기 기판 홀더 상에 레퍼런스 플레이트(reference plate)를 제공하는 단계 - 상기 레퍼런스 플레이트는 상기 레이저 빔의 조사에 응답하여 유도 방사(stimulated radiation)를 생성하는 재료를 포함함 - 와, 상기 레이저 빔이 상기 레퍼런스 플레이트의 일 지점에 충돌하여 상기 재료를 여기시킴으로써 충돌 지점에 국부적 글로(localized glow)를 생성하도록, 상기 기판 홀더를 포지셔닝(positioning)하는 단계와, 상기 이미지 기록 디바이스를 사용하여 상기 글로의 물리적 파라미터를 검출하는 단계를 포함한다. 이러한 물리적 파라미터의 예들은: 상기 시야에서 레퍼런스 포인트에 대한 상기 글로의 위치와, 상기 글로의 직경과, 상기 글로의 집적 강도(integrated intensity)와, 상기 글로의 형상과, 이들의 조합을 포함한다.</p> |
