| 摘要 |
本発明は、薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法、表示パネル、表示装置を提供する。薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法は、第１金属酸化物層、第２金属酸化物層及びソース・ドレイン金属層を順次堆積するステップと、前記第１金属酸化物層、前記第２金属酸化物層及び前記ソース・ドレイン金属層をパターニングすることにより活性層（４−１）、バッファー層（４−２）、ソース電極（５）及びドレイン電極（６）をそれぞれ形成するステップとを含む。前記第１金属酸化物層の導電率が前記第２金属酸化物層の導電率よりも小さい。本発明は、金属酸化物ＴＦＴアレイ基板の製造プロセスを簡素化し、製品の生産コストを低下することができる。 |
