发明名称 Appratus for treatmenting substrate
摘要 <p>본 발명은 커튼 월을 형성하는 가이드 가스에 의해 소스가스를 가이드하여 기판 상에 형성되는 박막의 증착 효율을 개선하는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는 상기 반응공간의 내부에 설치되고, 소스가스를 분사하는 소스 가스분사기와 상기 소스가스를 가이드하기 위해 커튼 월을 형성하는 가이드 가스를 분사하는 가이드 가스분사기를 포함하는 가스분사장치; 상기 가스분사장치와 대향하고 기판이 안치되는 기판안치대;를 포함하는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101534022(B1) 申请公布日期 2015.07.27
申请号 KR20080092588 申请日期 2008.09.22
申请人 发明人
分类号 H01L21/00;H01L21/02 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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