Verfahren zur Herstellung einer lateral strukturierten Schicht und optoelektronisches Halbleiterbauteil mit einer solchen Schicht

摘要

Verfahren zur Herstellung einer lateral strukturierten Schicht und optoelektronisches Halbleiterbauteil mit einer solchen Schicht Verfahren zur Herstellung einer lateral strukturierten Schicht, insbesondere eines Leuchtstoffplättchens (1), mit den Schritten: – Bereitstellen eines Trägers (2) mit einer ersten elektrisch leitfähigen Schicht (21) an einer Trägeroberseite (20), – Aufbringen einer Isolationsschicht (23) auf die erste elektrisch leitfähige Schicht (21) und einer zweiten elektrisch leitfähigen Schicht (22) auf die Isolationsschicht (23), – Aufbringen und Strukturieren einer Ätzmaske (3) auf die zweite elektrisch leitfähige Schicht (22), – Ätzen der zweiten elektrisch leitfähigen Schicht (22) und der Isolationsschicht (23), wobei die erste elektrisch leitfähige Schicht (21) als durchgehende Schicht erhalten bleibt, – Anlegen einer Spannung an die erste elektrisch leitfähige Schicht (21) und elektrophoretisches Beschichten der ersten elektrisch leitfähigen Schicht (21) mit einem ersten Material (4), und – Anlegen einer Spannung an die zweite elektrisch leitfähige Schicht (22) und elektrophoretisches Beschichten der zweiten elektrisch leitfähigen Schicht (22) mit einem zweiten Material (5).