发明名称 スルホン化ポリフェニレンスルホンから製造された限外ろ過膜
摘要 本発明は、スルホン化ポリアリーレンエーテルスルホンポリマーに基づく膜基材層(S)を含む限外ろ過膜及びその製造方法に関する。更に、本発明は、前記膜を使用する限外ろ過法に関する。
申请公布号 JP2015520662(A) 申请公布日期 2015.07.23
申请号 JP20150506253 申请日期 2013.04.19
申请人 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBASF SE;ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール 发明人 マーティン ヴェーバー;クリスティアン マレツコ;ナタリア ウィジョジョ;ペイシャン ジョン;タイ−シュン チュン
分类号 B01D71/68;B01D61/14;B01D69/10 主分类号 B01D71/68
代理机构 代理人
主权项
地址