发明名称 |
スルホン化ポリフェニレンスルホンから製造された限外ろ過膜 |
摘要 |
本発明は、スルホン化ポリアリーレンエーテルスルホンポリマーに基づく膜基材層(S)を含む限外ろ過膜及びその製造方法に関する。更に、本発明は、前記膜を使用する限外ろ過法に関する。 |
申请公布号 |
JP2015520662(A) |
申请公布日期 |
2015.07.23 |
申请号 |
JP20150506253 |
申请日期 |
2013.04.19 |
申请人 |
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBASF SE;ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール |
发明人 |
マーティン ヴェーバー;クリスティアン マレツコ;ナタリア ウィジョジョ;ペイシャン ジョン;タイ−シュン チュン |
分类号 |
B01D71/68;B01D61/14;B01D69/10 |
主分类号 |
B01D71/68 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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