摘要 |
Es werden Ausführungsformen einer Halbleiter-Bauelement-Struktur und eines Verfahrens zu ihrer Herstellung bereitgestellt. Die Halbleiter-Bauelement-Struktur weist ein Substrat und eine erste Schicht auf, die auf dem Substrat hergestellt ist. Die Halbleiter-Bauelement-Struktur weist weiterhin eine spannungsreduzierende Struktur auf, die in der ersten Schicht ausgebildet ist, wobei ein Teil der ersten Schicht von der spannungsreduzierenden Struktur umschlossen ist. Die Halbleiter-Bauelement-Struktur weist weiterhin ein leitendes Element auf, das in dem Teil der ersten Schicht ausgebildet ist, der von der spannungsreduzierenden Struktur umschlossen ist. |
申请人 |
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. |
发明人 |
LIN, YI-RUEI,;PENG, YEN-MING,;YANG, HAN-WEI,;LAI, CHEN-CHUNG, |