Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems und reflexionsminderndes Schichtsystem

摘要

Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems (5) auf einem Substrat (10) beschrieben, umfassend die Verfahrensschritte:–Aufbringen einer ersten Schicht (1) auf das Substrat (10),–Aufbringen einer anorganischen zweiten Schicht (2), wobei die anorganische zweite Schicht (2) zur Erzeugung einer porösen Schichtstruktur unter einem Dampfeinfallswinkel größer als 60° aufgedampft wird,–Aufbringen einer organischen Schicht (3), und–Erzeugen einer Nanostruktur (31) in der organischen Schicht (3) durch einen Plasmaätzprozess. Weiterhin wird ein mit dem Verfahren herstellbares reflexionsminderndes Schichtsystem (5) angegeben.