LITHOGRAPHIC MASK, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD

摘要

리소그래피 마스크는 일정 파장의 방사선에 실질적으로 투과성이 있는 기판을 포함하고, 상기 기판은 패턴으로 방사선 흡수재를 포함하며, 상기 패턴은 상기 일정 파장의 방사선 빔의 단면에 추가적인 패턴을 부여하도록 되어 있고, 상기 방사선 흡수재의 두께는, 상기 일정 파장을 상기 방사선 흡수재의 굴절률로 나눈 값과 실질적으로 동일하다.